|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 2 van 27 gevonden artikelen
| Titel: |
Characterization of negative tone photoresist mr-EBL 6000.5 for i-line stepper and electron beam lithography for the Intra-Level Mix & Match Approach |
| Auteur: |
Schermer, S. Helke, C. Reinhardt, M. Hartmann, S. Tank, F. Wecker, J. Heldt, G. Voigt, A. Reuter, D. |
| Verschenen in: |
Micro and nano engineering |
| Paginering: | Jaargang 23 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2024 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
The Authors |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 2 van 27 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |