|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 4 van 36 gevonden artikelen
| Titel: |
Assessing tolerances in direct write laser grayscale lithography and reactive ion etching pattern transfer for fabrication of 2.5D Si master molds |
| Auteur: |
Cunha, Joao Garcia, Inês S. Santos, Joana D. Fernandes, José González-Losada, Pedro Silva, Carlos Gaspar, João Cortez, Ana Sampaio, Marcos Aguiam, Diogo E. |
| Verschenen in: |
Micro and nano engineering |
| Paginering: | Jaargang 19 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2023 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
The Authors |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 4 van 36 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |