|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 20 van 21 gevonden artikelen
| Titel: |
Understanding dose correction for high-resolution 50 kV electron-beam lithography on thick resist layers |
| Auteur: |
Åstrand, Mattias Frisk, Thomas Ohlin, Hanna Vogt, Ulrich |
| Verschenen in: |
Micro and nano engineering |
| Paginering: | Jaargang 16 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2022 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
The Authors |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 20 van 21 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |