|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 11 van 20 gevonden artikelen
| Titel: |
Low-temperature ALD process development of 200 mm wafer-scale MoS2 for gas sensing application |
| Auteur: |
Neubieser, R.-M. Wree, J.-L. Jagosz, J. Becher, M. Ostendorf, A. Devi, A. Bock, C. Michel, M. Grabmaier, A. |
| Verschenen in: |
Micro and nano engineering |
| Paginering: | Jaargang 15 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2022 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
The Authors |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 11 van 20 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |