|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 16 van 75 gevonden artikelen
| Titel: |
Curvature of free-standing polycrystalline SiC thick films grown by CVD: On the origin of the residual stress gradient |
| Auteur: |
Gallou, Yann Potier, Alexandre Chaussende, Didier |
| Verschenen in: |
Materialia |
| Paginering: | Jaargang 39 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2025 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 16 van 75 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |