Digitale Bibliotheek
Sluiten Bladeren door artikelen uit een tijdschrift
 
<< vorige    volgende >>
     Tijdschrift beschrijving
       Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
         Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
           Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
                                       Details van artikel 8 van 10 gevonden artikelen
 
 
  Thermal boundary resistance correlated with strain energy in individual Si film-wafer twist boundaries
 
 
Titel: Thermal boundary resistance correlated with strain energy in individual Si film-wafer twist boundaries
Auteur: Xu, D.
Hanus, R.
Xiao, Y.
Wang, S.
Snyder, G.J.
Hao, Q.
Verschenen in: Materials today physics
Paginering: Jaargang 6 () nr. C pagina's 53-59
Jaar: 2018
Inhoud:
Uitgever: Elsevier Ltd
Bronbestand: Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften
 
 

                             Details van artikel 8 van 10 gevonden artikelen
 
<< vorige    volgende >>
 
 Koninklijke Bibliotheek - Nationale Bibliotheek van Nederland