|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 61 van 117 gevonden artikelen
| Titel: |
Influence of water background pressure on removal rates of SiO 2 , Si and photo resist in reactive ion beam etching |
| Auteur: |
Birtel, Peter Rohkamm, Erik Bauer, Jens Frost, Frank |
| Verschenen in: |
Surfaces and interfaces |
| Paginering: | Jaargang 64 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2025 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
The Authors |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 61 van 117 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |