|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 120 van 155 gevonden artikelen
| Titel: |
SiO2/Si stack’s damage in plasma processing: Ar, O 2 , and H 2 gas species effect on damage formation, structure, and recovery |
| Auteur: |
Nunomura, Shota Tsutsumi, Takayoshi Kamataki, Kunihiro Oshima, Ryuji Shiratani, Masaharu Hori, Masaru |
| Verschenen in: |
Surfaces and interfaces |
| Paginering: | Jaargang 62 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2025 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 120 van 155 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |