|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 23 van 88 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of SiH4 fragments and H radicals on nc-Si:H film deposition in an inductively coupled plasma PECVD |
| Auteur: |
Yoon, Min Young Yeom, Hee-Jung Jeong, Jong-Ryul Lee, Hyo-Chang Kim, Jung-Hyung |
| Verschenen in: |
Surfaces and interfaces |
| Paginering: | Jaargang 60 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2025 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 23 van 88 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |