|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 33 van 88 gevonden artikelen
| Titel: |
Enhanced physical and electrical properties of HfO2 deposited by atomic layer deposition using a novel precursor with improved thermal stability |
| Auteur: |
Lee, Seung Won Kim, Hyunchang Ahn, Ji-Hoon |
| Verschenen in: |
Surfaces and interfaces |
| Paginering: | Jaargang 42 () nr. PB pagina's p. |
| Jaar: |
2023 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 33 van 88 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |