|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 13 van 26 gevonden artikelen
| Titel: |
Formation of high aspect ratio fused silica nanowalls by fluorine-based deep reactive ion etching |
| Auteur: |
Park, Jung-Rae Berndt, Aaron Kim, Young Keun Lee, Ji Sung Ryu, Jong Eun Choi, Daniel Sunghoi |
| Verschenen in: |
Nano-structures & nano-objects |
| Paginering: | Jaargang 15 () nr. C pagina's 212-215 |
| Jaar: |
2018 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 13 van 26 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |