|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 17 van 26 gevonden artikelen
| Titel: |
Mechanism for Al2O3 Atomic Layer Deposition on LiMn2O4 from In Situ Measurements and Ab Initio Calculations |
| Auteur: |
Chen, Lin Warburton, Robert E. Chen, Kan-Sheng Libera, Joseph A. Johnson, Christopher Yang, Zhenzhen Hersam, Mark C. Greeley, Jeffrey P. Elam, Jeffrey W. |
| Verschenen in: |
Chem |
| Paginering: | Jaargang 4 (2018) nr. 10 pagina's 2418-2435 |
| Jaar: |
2018 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Inc. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 17 van 26 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |