|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 3 van 33 gevonden artikelen
| Titel: |
Atomic layer deposition of vanadium oxides: process and application review |
| Auteur: |
Prasadam, V.P. Bahlawane, N. Mattelaer, F. Rampelberg, G. Detavernier, C. Fang, L. Jiang, Y. Martens, K. Parkin, I.P. Papakonstantinou, I. |
| Verschenen in: |
Materials today chemistry |
| Paginering: | Jaargang 12 (2019) nr. C pagina's 396-423 |
| Jaar: |
2019 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 3 van 33 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |