|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 4 van 23 gevonden artikelen
| Titel: |
Comparisons of alumina barrier films deposited by thermal and plasma atomic layer deposition |
| Auteur: |
Jarvis, K.L. Evans, P.J. Nelson, A. Triani, G. |
| Verschenen in: |
Materials today chemistry |
| Paginering: | Jaargang 11 (2019) nr. C pagina's 8-15 |
| Jaar: |
2019 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 4 van 23 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |