|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 23 van 101 gevonden artikelen
| Titel: |
Development and analysis of tantalum nitride coatings prepared by DC reactive sputtering |
| Auteur: |
Kapopara, Jaydeep M. Chauhan, Kamlesh V. Jariwala, Nayan N. Gandhi, Akash A. Rawal, Sushant K. |
| Verschenen in: |
Materials today: proceedings |
| Paginering: | Jaargang 5 (2018) nr. 10P1 pagina's 20899-20903 |
| Jaar: |
2018 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 23 van 101 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |