Digitale Bibliotheek
Sluiten Bladeren door artikelen uit een tijdschrift
 
<< vorige    volgende >>
     Tijdschrift beschrijving
       Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
         Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
           Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
                                       Details van artikel 228 van 254 gevonden artikelen
 
 
  Study of Bias-Temperature Instability in HfO2 sputtered Thin Films by Post Nitrogen Annealing for the Advanced CMOS Technology
 
 
Titel: Study of Bias-Temperature Instability in HfO2 sputtered Thin Films by Post Nitrogen Annealing for the Advanced CMOS Technology
Auteur: Singh, Vikram
Karthik, R.
Kumar, Prem
Verschenen in: Materials today: proceedings
Paginering: Jaargang 4 () nr. 8 pagina's 9224-9229
Jaar: 2017
Inhoud:
Uitgever: Elsevier Ltd
Bronbestand: Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften
 
 

                             Details van artikel 228 van 254 gevonden artikelen
 
<< vorige    volgende >>
 
 Koninklijke Bibliotheek - Nationale Bibliotheek van Nederland