|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 228 van 254 gevonden artikelen
| Titel: |
Study of Bias-Temperature Instability in HfO2 sputtered Thin Films by Post Nitrogen Annealing for the Advanced CMOS Technology |
| Auteur: |
Singh, Vikram Karthik, R. Kumar, Prem |
| Verschenen in: |
Materials today: proceedings |
| Paginering: | Jaargang 4 () nr. 8 pagina's 9224-9229 |
| Jaar: |
2017 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 228 van 254 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |