|
| << vorige |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 45 van 45 gevonden artikelen
| Titel: |
Two-photon polymerized wetting morphologies for tunable external and internal electrode micropatterning |
| Auteur: |
Sikulskyi, Stanislav Srinivasaraghavan Govindarajan, Rishikesh Stark, Taylor Ren, Zefu Reed, Nicholas Kim, Daewon |
| Verschenen in: |
Additive manufacturing |
| Paginering: | Jaargang 86 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2024 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
The Authors |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 45 van 45 gevonden artikelen
| << vorige |