|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 46 van 157 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of the thickness of amorphous silicon intermediate layer on the thermal transport of silicon/diamond interface |
| Auteur: |
Qu, Yongfeng Yuan, Jin Deng, Ningkang Hu, Wenbo Wu, Shengli Wang, Hongxing |
| Verschenen in: |
Results in physics |
| Paginering: | Jaargang 52 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2023 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
The Author(s) |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 46 van 157 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |