|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 199 van 200 gevonden artikelen
| Titel: |
Why do designers in various fields have different attitude and behavioral intention towards AI painting tools? an extended UTAUT model |
| Auteur: |
Du, Ying Li, Tianyu Gao, Chang |
| Verschenen in: |
Procedia computer science |
| Paginering: | Jaargang 221 () nr. C pagina's 1519-1526 |
| Jaar: |
2023 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 199 van 200 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |