|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 5 van 26 gevonden artikelen
| Titel: |
Dielectric barrier discharge coupled with oxygen-vacancy-rich NiO−CeO2 for efficient and low-energy degradation of SF6 |
| Auteur: |
Dong, Runze Li, Wenhao Yang, Qiyu Li, Ping Zhang, Pan Wang, Lemeng Fu, Dong |
| Verschenen in: |
Chinese journal of chemical engineering |
| Paginering: | Jaargang 82 () nr. C pagina's 256-269 |
| Jaar: |
2025 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
The Chemical Industry and Engineering Society of China, and Chemical Industry Press Co., Ltd. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 5 van 26 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |