|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 3 van 31 gevonden artikelen
| Titel: |
Application of pulsed chemical vapor deposition on the SiO2-coated TiO2 production within a rotary reactor at room temperature |
| Auteur: |
Yang, Ke Zhong, Shan Yue, Hairong Tang, Siyang Ma, Kui Liu, Changjun Qiao, Kai Liang, Bin |
| Verschenen in: |
Chinese journal of chemical engineering |
| Paginering: | Jaargang 45 () nr. C pagina's 22-31 |
| Jaar: |
2022 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
The Chemical Industry and Engineering Society of China, and Chemical Industry Press Co., Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 3 van 31 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |