|
| << vorige |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 19 van 19 gevonden artikelen
| Titel: |
Thermodynamic behaviors of SiCl2 in silicon deposition by gas phase zinc reduction of silicon tetrachloride |
| Auteur: |
Hou, Yanqing Nie, Zhifeng Xie, Gang Li, Rongxing Yu, Xiaohua Ramachandran, Plant A. |
| Verschenen in: |
Chinese journal of chemical engineering |
| Paginering: | Jaargang 23 (2015) nr. 3 pagina's 7 p. |
| Jaar: |
2015 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 19 van 19 gevonden artikelen
| << vorige |