|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 5 van 30 gevonden artikelen
| Titel: |
Atomistic mechanisms of SiC electrochemical mechanical polishing in aqueous H2O2: A ReaxFF molecular dynamics study |
| Auteur: |
Zhu, Rui Zhang, Tianyu Yao, Qingyu Peng, Yang Cheng, Feng Wang, Zirui Wang, Yongguang Lu, Xiaolong Wang, Chuanyang Zhao, Yongwu |
| Verschenen in: |
Journal of manufacturing processes |
| Paginering: | Jaargang 136 () nr. C pagina's 56-67 |
| Jaar: |
2025 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
The Society of Manufacturing Engineers |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 5 van 30 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |