|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 69 van 74 gevonden artikelen
| Titel: |
Surface evolution mechanism for atomic-scale smoothing of Si via atmospheric pressure plasma etching |
| Auteur: |
Wu, Bing Yi, Rong Ding, Xuemiao Chiu, Tom He, Quanpeng Deng, Hui |
| Verschenen in: |
Journal of manufacturing processes |
| Paginering: | Jaargang 132 () nr. C pagina's 353-362 |
| Jaar: |
2024 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
The Society of Manufacturing Engineers |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 69 van 74 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |