|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 13 van 74 gevonden artikelen
| Titel: |
Atomic-scale insights into the material removal mechanism of cerium oxide polished fused silica based on ReaxFF-MD |
| Auteur: |
Li, Fukun Bai, Yang Hu, Haixiang Li, Longxiang Zhang, Feng Luo, Xiao Zhang, Xuejun |
| Verschenen in: |
Journal of manufacturing processes |
| Paginering: | Jaargang 132 () nr. C pagina's 339-352 |
| Jaar: |
2024 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 13 van 74 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |