|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 20 van 49 gevonden artikelen
| Titel: |
Environment-friendly chemical mechanical polishing using NaHCO3-activated H2O2 slurry for highly efficient finishing of 4H-SiC (0001) surface |
| Auteur: |
Shen, Yu Wang, Haoxiang Guo, Xiaoguang Gao, Shang |
| Verschenen in: |
Journal of manufacturing processes |
| Paginering: | Jaargang 109 () nr. C pagina's 213-221 |
| Jaar: |
2024 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
The Society of Manufacturing Engineers |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 20 van 49 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |