|
Formation of nanocrystalline CrSi2 layers in Si by ion implantation and pulsed annealing |
|
|
|
Titel: |
Formation of nanocrystalline CrSi2 layers in Si by ion implantation and pulsed annealing |
Auteur: |
Batalov, R.I. Bayazitov, R.M. Valeev, V.F. Galkin, N.G. Goroshko, D.L. Galkin, K.N. Chusovitin, E.A. Gaiduk, P.I. Ivlev, G.D. Gatskevich, E.I. |
Verschenen in: |
Physics procedia |
Paginering: |
Jaargang 11 (2011) nr. C pagina's 4 p. |
Jaar: |
2011 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|