|
| volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 1 van 16 gevonden artikelen
| Titel: |
Atomic layer deposition: Catalytic preparation and modification technique for the next generation |
| Auteur: |
Zhang, Hongbo Marshall, Christopher L. |
| Verschenen in: |
Chinese journal of catalysis |
| Paginering: | Jaargang 40 (2019) nr. 9 pagina's 1311-1323 |
| Jaar: |
2019 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Dalian Institute of Chemical Physics, the Chinese Academy of Sciences |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 1 van 16 gevonden artikelen
| volgende >> |