|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 23 van 29 gevonden artikelen
| Titel: |
Notching characteristics of un-doped amorphous silicon in high density plasma etching |
| Auteur: |
Ko, Cheon-Kwang Lee, Won Gyu |
| Verschenen in: |
Journal of industrial and engineering chemistry |
| Paginering: | Jaargang 15 (2009) nr. 2 pagina's 4 p. |
| Jaar: |
2009 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
The Korean Society of Industrial and Engineering Chemistry |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 23 van 29 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |