|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 48 van 51 gevonden artikelen
| Titel: |
Tenacious copper nanoclusters shielded by aromatic thiol for use in antibacterial, bioimaging, and dye degradation applications |
| Auteur: |
Murugan, Ramadurai Raj Gunasekar, Kiren Ali, Saheb Sivalingam, Chitra Subramanian, Raghunandhakumar Venkatesan, Kumar Selvaraj, Manickam Malakondaiah, Suresh |
| Verschenen in: |
Journal of industrial and engineering chemistry |
| Paginering: | Jaargang 137 () nr. C pagina's 448-454 |
| Jaar: |
2024 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
The Korean Society of Industrial and Engineering Chemistry |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 48 van 51 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |