|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 42 van 46 gevonden artikelen
| Titel: |
Sparse identification modeling and predictive control of wafer temperature in an atomic layer etching reactor |
| Auteur: |
Ou, Feiyang Abdullah, Fahim Wang, Henrik Tom, Matthew Orkoulas, Gerassimos Christofides, Panagiotis D. |
| Verschenen in: |
Transactions of the Institution of Chemical Engineers. Part A, Chemical engineering research & design |
| Paginering: | Jaargang 202 () nr. C pagina's 1-11 |
| Jaar: |
2024 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Institution of Chemical Engineers |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 42 van 46 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |