|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 61 van 77 gevonden artikelen
| Titel: |
Robust ferroelectric and low coercive field in ZrO2 thin film through wide chemical-processing window |
| Auteur: |
Liu, Xiuqiao Li, Hangren Zheng, Dongxing Tu, Jie Xi, Guoqiang Liu, Xudong Wu, Rong Lu, Dongfei Wang, Qingxiao Zhang, Xixiang Tian, Jianjun Zhang, Linxing |
| Verschenen in: |
Nano today |
| Paginering: | Jaargang 59 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2024 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 61 van 77 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |