|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 35 van 128 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of deposition rate on the growth mechanism of microcrystalline silicon thin films using very high frequency PECVD |
| Auteur: |
Li, Xinli Jin, Ruimin Li, Lihua Lu, Jingxiao Gu, Yongjun Ren, Fengzhang Huang, Jinliang |
| Verschenen in: |
Optik |
| Paginering: | Jaargang 180 (2019) nr. C pagina's 104-112 |
| Jaar: |
2019 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier GmbH |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 35 van 128 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |