Digitale Bibliotheek
Sluiten Bladeren door artikelen uit een tijdschrift
 
<< vorige    volgende >>
     Tijdschrift beschrijving
       Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
         Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
           Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
                                       Details van artikel 35 van 128 gevonden artikelen
 
 
  Effect of deposition rate on the growth mechanism of microcrystalline silicon thin films using very high frequency PECVD
 
 
Titel: Effect of deposition rate on the growth mechanism of microcrystalline silicon thin films using very high frequency PECVD
Auteur: Li, Xinli
Jin, Ruimin
Li, Lihua
Lu, Jingxiao
Gu, Yongjun
Ren, Fengzhang
Huang, Jinliang
Verschenen in: Optik
Paginering: Jaargang 180 (2019) nr. C pagina's 104-112
Jaar: 2019
Inhoud:
Uitgever: Elsevier GmbH
Bronbestand: Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften
 
 

                             Details van artikel 35 van 128 gevonden artikelen
 
<< vorige    volgende >>
 
 Koninklijke Bibliotheek - Nationale Bibliotheek van Nederland