|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 169 van 228 gevonden artikelen
| Titel: |
Study on the relation between relative sensitivity of CR-39 and electric field strength in electrochemical etching |
| Auteur: |
Xiangbao, Li |
| Verschenen in: |
International journal of radiation, applications and instrumentation. Part D, Nuclear tracks and radiation measurements |
| Paginering: | Jaargang 12 (1986) nr. 1-6 pagina's 4 p. |
| Jaar: |
1986 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 169 van 228 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |