|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 21 van 31 gevonden artikelen
| Titel: |
Reaction mechanisms for the photon-enhanced etching of semiconductors: An investigation of the UV-stimulated interaction of chlorine with Si(100) |
| Auteur: |
Jackman, R.B. Ebert, H. Foord, J.S. |
| Verschenen in: |
Surface science letters |
| Paginering: | Jaargang 176 (1986) nr. 1-2 pagina's 1 p. |
| Jaar: |
1986 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 21 van 31 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |