|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 41 van 55 gevonden artikelen
| Titel: |
Optimization of the Deposition Process Parameters of DC Magnetron Sputtering to Achieve Desired Deposition Rate Using Design of Experiment Method |
| Auteur: |
Ashok, Allamula Karan, Vir Lasya, Peela Jacob, Daljin Swaminathan, Parasuraman Yadav, Satyesh Kumar |
| Verschenen in: |
Journal of electronic materials |
| Paginering: | Jaargang 52 () nr. 10 pagina's 6851-6863 |
| Jaar: |
2023-08-04 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 41 van 55 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |