|
Dry Etching Characteristics of MOVPE-Grown CdTe Epilayers in CH4, H2, Ar ECR Plasmas |
|
|
|
Titel: |
Dry Etching Characteristics of MOVPE-Grown CdTe Epilayers in CH4, H2, Ar ECR Plasmas |
Auteur: |
Yasuda, K. Niraula, M. Araki, N. Miyata, M. Kitagawa, S. Kojima, M. Ozawa, J. Tsubota, S. Yamaguchi, T. Agata, Y. |
Verschenen in: |
Journal of electronic materials |
Paginering: |
Jaargang 46 (2017) nr. 9 pagina's 5400-5404 |
Jaar: |
2017 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Springer US, New York |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|