|
Determination of Critical Thickness for Epitaxial ZnTe Layers Grown by Molecular Beam Epitaxy on (211)B and (100) GaSb Substrates |
|
|
|
Titel: |
Determination of Critical Thickness for Epitaxial ZnTe Layers Grown by Molecular Beam Epitaxy on (211)B and (100) GaSb Substrates |
Auteur: |
Chai, J. Noriega, O. C. Dedigama, A. Kim, J. J. Savage, A. A. Doyle, K. Smith, C. Chau, N. Pena, J. Dinan, J. H. Smith, D. J. Myers, T. H. |
Verschenen in: |
Journal of electronic materials |
Paginering: |
Jaargang 42 (2013) nr. 11 pagina's 3090-3096 |
Jaar: |
2013 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Springer US, Boston |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|