|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 2 van 26 gevonden artikelen
| Titel: |
Effects of H2O Pretreatment on the Capacitance–Voltage Characteristics of Atomic-Layer-Deposited Al2O3 on Ga-Face GaN Metal–Oxide–Semiconductor Capacitors |
| Auteur: |
Liu, Xiang Yeluri, Ramya Lu, Jing Mishra, Umesh K. |
| Verschenen in: |
Journal of electronic materials |
| Paginering: | Jaargang 42 (2012) nr. 1 pagina's 33-39 |
| Jaar: |
2012 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, Boston |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 2 van 26 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |