|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 9 van 27 gevonden artikelen
| Titel: |
Fifteen-Nanometer Ru Diffusion Barrier on NiSi/Si for a sub-45 nm Cu Contact Plug |
| Auteur: |
Lin, Jia-Huei Lee, Jiing-Herng Hsu, Chen-Sheng Fang, Jau-Shiung |
| Verschenen in: |
Journal of electronic materials |
| Paginering: | Jaargang 38 (2009) nr. 11 pagina's 2251-2256 |
| Jaar: |
2009 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, Boston |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 9 van 27 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |