|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 2 van 12 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of Annealing Ambient on the Self-Formation Mechanism of Diffusion Barrier Layers Used in Cu(Ti) Interconnects |
| Auteur: |
Tsukimoto, S. Kabe, T. Ito, K. Murakami, M. |
| Verschenen in: |
Journal of electronic materials |
| Paginering: | Jaargang 36 (2007) nr. 3 pagina's 258-265 |
| Jaar: |
2007 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, Boston |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 2 van 12 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |