|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 2 van 15 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of process conditions on uniformity of velocity and wear distance of pad and wafer during chemical mechanical planarization |
| Auteur: |
Kim, Hyoungjae Jeong, Haedo |
| Verschenen in: |
Journal of electronic materials |
| Paginering: | Jaargang 33 (2004) nr. 1 pagina's 53-60 |
| Jaar: |
2004 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer-Verlag, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 2 van 15 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |