|
The effect of carrier gas and H(hfac) on MOCVD Cu films using (hfac)Cu(1,5-COD) as a precursor |
|
|
|
Titel: |
The effect of carrier gas and H(hfac) on MOCVD Cu films using (hfac)Cu(1,5-COD) as a precursor |
Auteur: |
Lee, W. H. Ko, Y. K. Choi, J. H. Byun, I. J. Kwak, H. T. Kim, D. H. Rhee, S. W. Reucroft, P. J. Lee, J. G. |
Verschenen in: |
Journal of electronic materials |
Paginering: |
Jaargang 30 () nr. 8 pagina's 1028-1034 |
Jaar: |
2007-06-21 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Springer-Verlag, New York |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|