|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 3 van 26 gevonden artikelen
| Titel: |
Dry-etch fabrication of reduced area InGaAs/InP DHBT devices for high speed circuit applications |
| Auteur: |
Kopf, R. F. Hamm, R. A. Wang, Y. -C. Ryan, R. W. Tate, A. Melendes, M. A. Pullela, R. Chen, Y. -K. Thevin, J. |
| Verschenen in: |
Journal of electronic materials |
| Paginering: | Jaargang 29 () nr. 2 pagina's 222-224 |
| Jaar: |
2000-04-03 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer-Verlag, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 3 van 26 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |