|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 2 van 19 gevonden artikelen
| Titel: |
Characterization of the CH4/H2/Ar high density plasma etching process for HgCdTe |
| Auteur: |
Eddy, C. R. Leonhardt, D. Shamamian, V. A. Meyer, J. R. Hoffman, C. A. Butler, J. E. |
| Verschenen in: |
Journal of electronic materials |
| Paginering: | Jaargang 28 () nr. 4 pagina's 347-354 |
| Jaar: |
1999-04-03 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer-Verlag, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 2 van 19 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |