|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 22 van 40 gevonden artikelen
| Titel: |
Low bias dry etching of III-nitrides in Cl2-based inductively coupled plasmas |
| Auteur: |
Cho, Hyun Vartuli, C. B. Donovan, S. M. Mackenzie, J. D. Abernathy, C. R. Pearton, S. J. Shul, R. J. Constantine, C. |
| Verschenen in: |
Journal of electronic materials |
| Paginering: | Jaargang 27 (1998) nr. 4 pagina's 166-170 |
| Jaar: |
1998 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer-Verlag, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 22 van 40 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |