|
Deposition of High Purity Parylene- F Using Low Pressure Low Temperature Chemical Vapor Deposition |
|
|
|
Titel: |
Deposition of High Purity Parylene- F Using Low Pressure Low Temperature Chemical Vapor Deposition |
Auteur: |
Wu, P. K. Yang, G. -R. You, L. Mathur, D. Cocoziello, A. Lang, C. -I. Moore, J. A. Lu, T. -M. Bakru, H. |
Verschenen in: |
Journal of electronic materials |
Paginering: |
Jaargang 26 (1997) nr. 8 pagina's 949-953 |
Jaar: |
1997 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Springer-Verlag, New York |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|