|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 20 van 28 gevonden artikelen
| Titel: |
Influence of AIN protective film thickness on the hardness and electrophotographic properties of organic photoconductors |
| Auteur: |
Miao, X. S. Chan, Y. C. Wong, C. K. H. Webb, D. P. Lam, Y. W. Leung, K. M. Chiu, D. S. |
| Verschenen in: |
Journal of electronic materials |
| Paginering: | Jaargang 26 (1997) nr. 4 pagina's 387-390 |
| Jaar: |
1997 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer-Verlag, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 20 van 28 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |