|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 5 van 20 gevonden artikelen
| Titel: |
Characteristics of PECVD grown tungsten nitride films as diffusion barrier layers for ULSI DRAM applications |
| Auteur: |
Park, Byung Lyul Ko, Dae-Hong Kim, Young Sun Ha, Jung Min Park, Young Wook Lee, Sang In Lee, Hyeon-Deok Lee, Myoung Bum Chung, U. In Koh, Young Bum Lee, Moon Yong |
| Verschenen in: |
Journal of electronic materials |
| Paginering: | Jaargang 26 () nr. 2 pagina's L1-L5 |
| Jaar: |
1997-06-14 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer-Verlag, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 5 van 20 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |