|
| << vorige |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 20 van 20 gevonden artikelen
| Titel: |
The optimization of the double mask system to minimize the contact resistance of a Ti/Pt/Au contact |
| Auteur: |
Waytena, G. L. Hoff, H. A. Isaacson, I. P. Rebbert, M. L. Ma, D. I. Marrian, Christie Suehle, J. S. |
| Verschenen in: |
Journal of electronic materials |
| Paginering: | Jaargang 26 (1997) nr. 2 pagina's 90-96 |
| Jaar: |
1997 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer-Verlag, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 20 van 20 gevonden artikelen
| << vorige |